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氧化扩散设备是什么？是进行硅片氧化的重要设备。
氧化（Oxidation）是将硅片放置于氧气或水汽等氧化剂的氛围中进行高温热处理，在硅片表面发生化学反应形成氧化膜的过程，是集成电路工艺中应用较广泛的基础工艺之一。氧化膜的用途广泛，可作为离子注入的阻挡层及注入穿透层（损伤缓冲层）、表面钝化、绝缘栅材料以及器件保护层、隔离层、器件结构的介质层等。扩散(Diffusion)是在高温条件下，利用热扩散原理将杂质元素按工艺要求掺入硅衬底中，使其具有特定的浓度分布，达到改变材料的电学特性，形成半导体器件结构的目的。在硅集成电路工艺中，扩散工艺用于制作PN结或构成集成电路中的电阻、电容、互连布线、二极管和晶体管等器件。
阳极氧化生产线具体需要哪些设备？阳极氧化生产线详细介绍:
1、线体分：手动线、半自动线、全自动线，以好种方式是以产品重量，长度，产量选择。
2、整套设备组成：天车、槽体、支架、周边设备、电控等组成。 阳极氧化生产线应用领域： 阳极氧化适用性强、用途广，适用于金属铝天花板，幕墙板，铝塑面板，防火板，蜂窝铝板，铝单板，电器面板，橱柜面板，家具面板等。
氧化炉的结构？管式氧化炉的加热元件一般为远红外线加热板，在炉膛的外部，通过热辐射对炉膛内的纤维加热，炉膛由多个独立的扁平金属腔体上下叠加构成，在每个腔体的上下安装有远红外线加热板，每个腔体之间用保温层隔开，可实现每个腔体独立控温，在腔体的底部开有均匀分布的小孔，预热后的新鲜空气由此小孔吹入炉膛内，并由炉膛两端排出，以提供氧化反应所需的氧和带走反应产生的副产物。管式氧化炉由于是远红外线加热板在炉膛外通过辐射使炉膛内加热到工艺温度，因而温度不均匀，并且由于新风的风量较小(如加大风量，能耗较高)，炉内无循环的热封，纤维上的反应热不能及时带走，影响纤维的质量，不适宜大规模的工业化生产，一般只应用于小型或试验线中。目前较为先进的氧化炉都是采用热风循环加热式氧化炉。
2.热封循环的氧化炉
三种不同吹风方式的氧化炉循环热风都是经过过滤器到达循环风机，加热元件位于循环风机与炉膛连接的风道内，循环热风经过加热元件时被加热到工艺温度，之后进入风道，从风道再进入炉膛，在炉膛内与丝束进行热交换，发生预氧化反应，同时带走生成的副产物及反应热。从炉膛出来的热风进入回风道，在回风道中一少部分热风通过排风机排入焚烧炉进行焚烧；绝大部分进入循环风机再次进行加热循环，并在循环风机的入口补充新鲜空气。
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